Физическая основа вакуумных ионно-плазменных технологий заключается в энергетическом
воздействии заряженных частиц на материал мишени в вакууме и/или переносе материала мишени
в результате воздействия на подложку.
Вакуумное оборудование и технологии стали широко использоваться, начиная с 50-х годов
прошлого века во многих отраслях промышленности, сельского хозяйства, медицины и строительства,
экологии и электроники, машиностроении, производстве товаров народного потребления. В частности,
с помощью вакуумных ионно-плазменных технологий была создана вся современная информационная
инфраструктура (инфраструктура постиндустриального общества). Можно сказать, что основное
свойство продуктов, производимых с помощью вакуумных технологий, заключается в уникальности их
свойств (этих продуктов), т. е. в невозможности получить того же результата другими способами.
Современные вакуумные технологии также должны обладать ещё и гибкостью применения, делать
возможным замену дорогостоящих или дефицитных материалов дешевыми и легкодоступными, обеспечивать
высокое качество материалов и изделий при экологической чистоте производства, иметь возможность
полной автоматизации управления и создавать комфортные условия труда для обслуживающего персонала
и т.д. Применяемое в современных вакуумных технологиях оборудование достаточно разнообразно:
Опал-1, Оратория-9, Leybold Z-700, УНИР-900, "Гамма", УВ-4м (ВАКМА) и другие ... (фотогалерея)
Установка "Оптима–1600" - основа унифицированного ряда вакуумного оборудования
Промышленный комплекс для изготовления селективных автомобильных зеркал
Термовакуумные установки нанесения ПКХП
Общие сведения об основных направлениях использования вакуумных технологий в различных
отраслях промышленности
Вакуумная установка для нанесения покрытий циркония, нитрида циркония, оксикарбида циркония и
других материалов на имплантаты
Так как есть нирвана, то есть и сансара
|